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  • 日立高新離子研磨裝置IM4000

    日立高新離子研磨裝置IM4000具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器!其高通量能提高加工效率:與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設計,減少了橫截面研磨時(shí)間。(大加工率:硅元素為300微米/小時(shí)--加工時(shí)間減少了66%。

    更新日期:2020-08-13
    型號:
    廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
  • 日立高新磁控濺射器MC1000

    日立高新磁控濺射器MC1000采用了電磁管電極,能夠大限度地減輕對樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

    更新日期:2020-08-13
    型號:
    廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
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